icp刻蚀

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受益于公司完整的单台和双台刻蚀设备布局、核心技术持续突破、产品升级快速迭代、刻蚀应用覆盖丰富等优势，2024年公司CCP和ICP刻蚀设备在国内主要客户芯片生产线上市占率持续提升。公司在客户端设备验证、运行情况良好，具体...

公司的CCP电容性高能等离子体刻蚀机和ICP电感性低能等离子体刻蚀机可以覆盖国内95%以上的刻蚀应用需求，在性能优秀、稳定性高等方面满足了客户先进制程中各类严苛要求。受益于公司完整的单台和双台刻蚀设备布局、核心技术持续...

金融界2025年5月13日消息，国家知识产权局信息显示，无锡尚积半导体科技股份有限公司取得一项名为“出气位可调的多级进气ICP刻蚀装置”的专利，授权公告号CN119742216B，申请日期为2025年3月。天眼查资料显示，无锡尚积半导体...

一个标志性事件为，深圳新凯来在3月亮相了多款工艺装备，其中包括四款12英寸刻蚀设备（ETCH），包括CCP（电容耦合等离子刻蚀）、ICP（电感耦合等离子体干法刻蚀）、自由基干法刻蚀。ETCH蚀刻是半导体制造工艺，是微电子IC制造...

以ICP 刻蚀 GaN和AIGaN材料为例，通过工艺参数的优化，得到了高发表于 12-29 14:39•3888 次阅读干法刻蚀工艺介绍刻蚀室半导体IC制造中的至关重要的一道工艺，一般有干法刻蚀和湿法刻蚀两种，发表于 06-13 14...

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近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，股票代码“688012.SH”）宣布通过不断提升反应台之间气体控制的精度，ICP双反应台刻蚀机Primo Twin-Star® 又取得新的突破，反应台之间的刻蚀精度已达到0.2A...

近日，中微公司宣布其等离子体刻蚀设备反应台全球累计出货量突破5000台，涵盖CCP高能等离子体刻蚀机、ICP低能等离子体刻蚀机等四类核心设备。这一数据表明，公司在刻蚀设备领域的技术能力和市场认可度进一步提升。此外，公司...