佳能光刻机突破2nm制程

中国有能力生产可大规模制造28纳米及以下制程芯片的深紫外光刻机。中国芯片制造设备正日趋成熟，华为及其合作伙伴正利用激光直接成像（LDP）技术生产可制造5纳米及更小制程芯片的极紫外光刻机。

这一增长主要得益于以下几个驱动因素：一是半导体产业的快速发展，特别是先进制程技术的不断突破，对光刻机的需求日益增加；二是新兴领域如人工智能、5G、物联网、电动车等对高性能芯片的需求激增，进一步推动了光刻机市场的...

EUV光刻机是制造7纳米及以下制程高端芯片的关键设备，其技术门槛极高，全球范围内仅有ASML能够稳定供应。...日本佳能公司率先推出了NIL（纳米压印光刻）技术，该技术能够在不使用EUV光刻机的情况下，生产出5纳米级别的芯片，尽管...

4月24日日本股市盘后，相机及光刻机大厂佳能（Canon）在. 4月24日日本股市盘后，相机及光刻机大厂佳能（Canon）在公布了2025年一季度（2025年1-3月）财报的同时，下修了2025年度的整体业绩预期。佳能一季度合并营收较去年同期...

一时之间，EUV光刻机被推上“神坛”，坊间普遍认为，“只要国产EUV光刻机突破，我们所面对的芯片封锁将瞬间瓦解”，这个理解，对也不对，不对是因为，...而除了德国通快以外，日本的佳能、尼康，台湾台积电，韩国三星电子，美国...

值得注意的是，国产固态DUV技术的突破，很可能会ASML的霸主地位，因为DUV光刻机通过多重曝光技术，已能实现7nm甚至3nm工艺，而这正是EUV光刻机的工作范畴，该技术的突破，直接削弱了EUV光刻机的“不可替代性”。与此同时，中国...

在全球芯片制造的版图中，ASML宛如一座难以撼动的高山，凭借着其在光刻机领域，尤其是EUV光刻机上的绝对优势，牢牢掌控着全球先进芯片制造的命脉。...EUV光刻机对于7nm以下的芯片制造至关重要，这使得全球所有追求先进芯片制造的...

但不可否认的是，一旦这种电子束光刻机大突破，解决了产能、分辨率等等问题之后，ASML的麻烦就来了，到时候ASML就无法一家独大了，那当前的这种局面，肯定会产生巨大的洗牌。当然，对于我们而言，表现上来看似乎也是利好，毕竟...

对于中国受众来说，这个消息比较出人意料—全球先进制程封装、成熟制程产能均主要集中在中国，而目前美商务部制定了严格的半导体产业链的对华禁运措施。在这种情况下，佳能光刻设备仍实现增长，并非易事。目前，新能源车、工业...

但不可否认的是，一旦这种电子束光刻机大突破，解决了产能、分辨率等等问题之后，ASML的麻烦就来了，到时候ASML就无法一家独大了，那当前的这种局面，肯定会产生巨大的洗牌。当然，对于我们而言，表现上来看似乎也是利好，毕竟...