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苹果新专利革新 Face ID:元件体积更小、成本更低、精度更高|光学|光束|透镜|控制器|苹果公司|知名企业|...

苹果新专利革新 Face ID:元件体积更小、成本更低、精度更高,专利,元件,光学,光束,透镜,控制器,苹果公司,知名企业,压力传感器

iPhone 17 灵动岛隐身在即?MOE 技术解析与苹果光学系统革新_FaceID_

苹果正在研究的新型 FaceID 系统,核心在于引入 超表面光学元件(MOEs)。与传统的曲面透镜或衍射光学元件(DOE)不同,MOEs 通过平面结构对光线进行精准调控,从而实现更小体积、更高光学效率与更强集成性。现有 FaceID 系统...

苹果Face ID再升级!新专利:超表面光学元件让体积更小成本更低精度更高

近期,科技界的目光被苹果公司的一项新专利所吸引。据科技媒体patentlyapple在5月28日的报道中透露,苹果公司已成功获得一项关于...随着技术的不断进步,我们可以期待苹果公司的Face ID系统在未来为用户带来更加出色的使用体验。

苹果获批新专利:超表面光学元件推动Face ID技术革新

根据相关报道,这项专利展示了苹果对于下一代 Face ID 技术的研发方向,即从当前广泛使用的衍射光学元件(DOE)转向一种...目前,苹果设备上的 Face ID 功能依赖于衍射光学元件来生成点状照明图案,从而对目标区域进行三维映射。...

苹果Face ID技术再升级,新专利让元件更小成本更低精度提升

据科技媒体patentlyapple的报道,苹果当前的Face ID系统依赖于DOE来生成用于3D映射的点状照明图案。这些图案通过结构光投影模组投射到目标区域,从而实现高精度的面部识别。传统结构光投影模组包含多个光学元件,如DOE和准直...

苹果新专利曝光:Face ID迎来革命性升级,精度更高成本更低

这一专利的获得预示着未来苹果产品中的Face ID功能将会有显著的改进。苹果的新专利展示了其在Face ID技术上的重大突破,通过引入超表面光学元件(MOE),不仅提高了人脸识别的精度,还降低了成本和简化…

苹果Face ID新专利:超表面光学元件引领技术革新,成本更低、精度更高!

5月29日,科技媒体Patently Apple报道,苹果公司获得了一项新的专利,涉及下一代Face ID技术。这项技术的革新之处在于,苹果将传统的衍射光学元件(DOE)替换为更为先进的超表面光学元件(MOE)。这不仅意味着Face ID的安全性...

2027年iPhone即将迎来全面屏革新,真全面屏将成为现实!苹果_FaceID_用户

2027年将是一个重要的里程碑,正值iPhone问世20周年,苹果公司计划推出一款全新的真全面屏iPhone,前置摄像头和FaceID系统将完全隐藏在屏幕下方。这一创新设计不仅将改变智能手机的外观,更将对用户体验带来深远的影响。据知情...

苹果手机2026年或配备屏下Face ID|苹果手机|设计|Face ID_新浪科技_新浪网

市场调研机构一位高管在社交媒体上透露,预计2026年上市的苹果手机将配备屏下Face ID技术。这一技术的加入意味着iPhone产品线将进一步提升全面屏设计的完整性。据透露,iPhone 18 Pro机型将仅搭载屏下Face ID方案,而不会采用...

苹果新一代iPhone 18 Pro或将首发屏下Face ID,颠覆手机设计!

2025年,科技界再度聚焦于苹果公司,最新消息显示,未来的iPhone 18 Pro系列或将搭载革命性的屏下Face ID技术。这一消息源自行业分析师罗斯·杨,他在最近的SID商业会议上引述了OTI Lumionics公司的CEO的话,暗示苹果将在2026...

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